国际半导体设备及材料展览暨研讨会开幕公司主办的《集成电路应用》杂志受到关注。2000年国际半导体设备及材料展览暨研讨会,于3月15日至16日在上海国际展览中心举行。
参加展览会是国内外一些半导体设备生产商、材料供应商和**商等,展览会展出了目前世界上较先进的集成电路制造的设备样品和资料。我公司有关部门领导出席了展览会开幕式。在为期两天的展会期间,公司大部分工程技术人员前去参观,了解行业信息技术发展的最新动态,并与对口供应商进行了现场技术交流,同时还参加了在展览会上举办具有国际先进水平的,半导体材料、工艺技术以及测试封装等技术讲座。这使大家对目前世界集成电路的发展动向有了进一步的了解。
展览会上,由我公司主办的《集成电路应用》杂志也参加了展出,这是一本学术性和应用性均很强的杂志,引起了与会人员的浓厚兴趣,不少参观者还留下名片或通讯地址,希望能得到《集成电路应用》杂志和公司的产品介绍。
据会议组织者称,随着中国半导体产业的迅速发展和世界半导体市场的急剧回升,今年在上海举行的国际半导体设备及材料展览会的规模和参观人数均比以前有较大幅度的增加,这也反映出我国半导体产业在国际同行中的地位正在日益增高。
《集成电路应用》杂志是一本学术性和应用性均很强的杂志,反映出我国半导体产业的发展。杂志由中国电子信息产业集团有限公司主管,在上海市创刊。
杂志栏目:
市场分析、业界风云、新技术聚焦、应用专题、新产品速递、区域动态。
期刊收录论文目录:
集成电路产业要全盘规划周玉梅
我国集成电路产业面临的问题、挑战和发展途径于燮康
集成电路、通讯、大数据领域的十三五规划要点分析陈平 朱劲松 钟奇
融智、融芯、融天下——Semicon中国2016展会及技术论坛艾恩溪
面对国际并购案,中国半导体业发展的新机遇陈炳欣
汽车智能化与驾驶信息系统创新傅柯思
EUV微影技术与7nm工艺麦利
在不同的半导体制造技术间高效转换集成光路设计的方法A.Sosa K.Welikow R.Broeke A.Bakker D.Tsiokos T.Tekin N.Pleros 王博文 王杰
各大半导体巨头制程工艺发展近况解读Fison
浅析英特尔14nm工艺优势威锋
半导体元器件分销商发展策略研究荣毅
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《电子科技文摘》电子期刊征稿,坚持为社会主义服务的方向,坚持以马克思列宁主义、毛泽东思想和邓小平理论为指导,贯彻“百花齐放、百家争鸣”和“古为今用、洋为中用”的方针,坚持实事求是、理论与实际相结合的严谨学风,传播先进的科学文化知识,弘扬民族优秀科学文化,促进国际科学文化交流,探索防灾科技教育、教学及管理诸方面的规律,活跃教学与科研的学术风气,为教学与科研服务。
集成电路应用杂志最新期刊目录
基于180 nm CMOS工艺的555定时器设计与仿真验证
摘要:针对传统双极型555定时器功耗高、电源范围窄等不足,该研究基于180 nm CMOS工艺,完成了555定时器的设计与仿真验证。核心比较器采用五管OTA结合PMOS输入对管技术,有效优化了输入共模范围;通过Cascode电流镜保障了3 V~15 V宽电压下的阈值精度。利用仿真软件进行后仿真验证,芯片在15 V供电下功耗仅为3.05 m W,较传统方案降低90%以上。在典型及大多数工艺角条件下,频率温...
基于带隙基准的高端理想二极管研究
摘要:环境温度对电路性能有重要影响,针对温度漂移问题,该研究使用基于带隙基准设计高端理想二极管,电路由高端负载开关MOS管、电压比较器和带隙基准电压模块等构成。电压比较器具有优先迟滞回环传输特性,可提高抗干扰能力;带隙基准电压源具有高精度,电压比较器通过对比MOS管输出端的分压电压与基准电压大小,再控制高端负载开关MOS主管导通与截止。正向、反向偏置仿真表明,电路具有防止倒灌功能和较低的正向压降,可以保...
多通道RS422转以太网数据传输网关的设计与实现
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投稿须知
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